يدعي أحدث تقرير من صحيفة Nikkei، أن شركة أشباه الموصلات الصينية العملاقة SMIC قد خصصت الآن فريق بحث وتطوير للعمل على دقات تصنيع تبلغ 5 نانومتر و 3 نانومتر، بعد أن طورت دقة تصنيع تبلغ 7 نانومتر من الجيل الثاني بنجاح.
يقود هذا الفريقَ الرئيسُ التنفيذي والشريك المؤسس ليانغ مون سونغ، الذي كان يعمل في شركة TSMC وسامسونج ويعتبر واحدًا من أفضل العلماء والمديرين التنفيذيين لأشباه الموصلات في هذا المجال، وهي محاولة جادة للوصول إلى دقة تصنيع تبلغ 5 نانومتر و 3 نانومتر خاصة مع عدم قدرة SMIC على الوصول إلى معدات إنتاج الرقاقات المتطورة بسبب العقوبات الأمريكية التي فرضتها وزارة التجارة الأمريكية.
قال ديك ثورستون، كبير المستشارين القانونيين السابق في شركة TSMC، لموقع EE Times: “لا يوجد عالم أو مهندس أكثر ذكاءً من هذا الرجل (ليانغ مون سونغ). إنه حقًا أكثر العباقرة دهاء في عالم أشباه الموصلات”.
ويعتقد ثورستون أنه في ظل قيادة الرئيس التنفيذي المؤسس ليانغ مون سونغ، يمكن لشركة SMIC إنتاج رقاقات بدقة تصنيع تبلغ 5 نانومتر بكميات كبيرة دون استخدام أدوات الأشعة فوق البنفسجية.
وأشار ثورستون إلى أن هذه هي المرة الأولى التي نسمع فيها من مصدر موثوق عن قدرة شركة أشباه الموصلات SMIC على تصميم رقاقات بدقة تصنيع تبلغ 3 نانومتر فقط باستخدام تقنية DUV.
مقالات ذات صلة
لا يمكن إنكار حقيقة أن شركة SMIC قد قطعت شوطًا طويلًا من كونها مسبكًا صغيرًا في الصين إلى أن أصبحت الشركة الخامسة في مجال تصنيع الرقاقات.
ووسط التوترات المتزايدة بين الولايات المتحدة الأمريكية والصين، أُدرجت شركة SMIC في قائمة العقوبات التابعة لوزارة التجارة الأمريكية وفقدت بذلك إمكانية الوصول إلى أدوات تصنيع الرقاقات المتطورة، مما أدى إلى إبطاء تقدمها بشدة في مجال دقات التصنيع.
ونتيجة لذلك، لم تتمكن شركة SMIC من الحصول على أدوات الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية المتطرفة (EUV) من ASML، ودقة التصنيع التي وصلت إليها SMIC تبلغ 7 نانومتر من الجيل الثاني وهي تعتمد فقط على الطباعة الحجرية فوق البنفسجية العميقة (DUV).
نسخ الرابط تم نسخ الرابط
